ZEISS 為半導體 AOI 設備量產環境打造的極限解析光學核心

在半導體 AOI 設備與先進封裝製程中，多數缺陷不是不存在，而是對比不足而被忽略

真正決定「缺陷能不能被穩定抓出來」的，從來不只是倍率，而是 Numerical Aperture (NA)

ZEISS 導入並整合 ZEISS 顯微鏡物鏡 NA0.95 (EC Epiplan-APOCHROMAT系列)，專為 高速掃描、自動化、量產環境 設計

讓 AOI 從 (看得到) 升級為 (看得準、判得穩、量得更可信)，ZEISS不只是供應高品質光學部件，而是協助製程單位與設備廠，把光學真正導入量產流程

 

為什麼要選 顯微鏡物鏡 NA 0.95？

ZEISS 顯微鏡物鏡 NA 0.95 帶來

● Apochromatically corrected (高階色差校正) : 高倍率下邊緣與細線顏色暈染更少

● 近似遠心 : 對量測用途特別理想

● 400nm - 700nm 高透過率：對白光照明、不同波段濾光應用更友善

● 更高的光收集效率

● 更高的透光率 (訊號收集效率) 來增加 Throughput

● 更銳利的邊界轉換

● 更立體的金屬 / 介電層反差

 

使缺陷在 AOI 影像中浮現	直接提升
● 線邊粗糙 ● 微裂紋 ● Pin-hole ● 薄膜殘留 ● 異物顆粒 ● 微刮傷	● 缺陷檢出率 (Capture Rate) ● AOI 演算法穩定度

 

適用製程與設備類型

● 半導體 AOI 檢量系統

● 先進封裝檢量設備

● RDL / Bumping / Hybrid Bonding

● CD / Overlay 光學檢測

● Wafer Prober 光學模組

● FA / Reliability Lab

 

ZEISS 授權代理商-泓邦科技

各倍率在 AOI 設備中的用途

 50X NA0.95 – Inline AOI 設備的主力倍率 

EC Epiplan-Apochromat 50x/0.95 BD DIC M27

特點

● 解析力接近極限

● 視野仍足夠

● 掃描效率高

● 高倍率AOI設備最理想的 (量產倍率)

 

 100X NA0.95 – 高階缺陷鑑別 

EC Epiplan-Apochromat 100x/0.95 HD DIC M27

常用於

● AOI review station

● 製程工站

● FA Lab 光學確認

 

 150X NA0.95  – 極小缺陷可視化 

EC Epiplan-Apochromat 150x/0.95 M27

價值在於

● 將 NA 0.95 的極限解析轉為「可判讀影像」把細節放大到更好判讀

● 提升缺陷分類準確度